GB/T 32814-2016 硅基MEMS制造技术 基于SOI硅片的MEMS工艺规范
GB/T 32814-2016 Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the SOI wafer based MEMS process
国家标准
中文简体
现行
页数:14页
|
格式:PDF
基本信息
标准号
GB/T 32814-2016
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2016-08-29
实施日期
2017-03-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
适用范围
本标准规定了采用SOI硅片进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求和质量检验要求。
本标准适用于硅基MEMS制造技术中基于SOI硅片的MEMS器件的加工和质量检验。
本标准适用于硅基MEMS制造技术中基于SOI硅片的MEMS器件的加工和质量检验。
发布历史
-
2016年08月
研制信息
- 起草单位:
- 西北工业大学、中机生产力促进中心
- 起草人:
- 苑伟政、谢建兵、李海斌、乔大勇、马志波、常洪龙、刘伟
- 出版信息:
- 页数:14页 | 字数:24 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS31.200
L55
中华人民共和国国家标准
/—
GBT328142016
硅基MEMS制造技术
基于SOI硅片的MEMS工艺规范
Silicon-basedMEMSfabricationtechnolo—
gy
SecificationforcriterionoftheSOIwaferbasedMEMSrocess
pp
2016-08-29发布2017-03-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
GBT328142016
目次
前言…………………………Ⅰ
1范围………………………1
2规范性引用文件…………………………1
3术语和定义………………1
4工艺流程…………………1
4.1概述…………………1
4.2硅片清洗……………2
4.3掩膜制备……………2
4.4干法刻蚀……………4
4.5结构释放……………5
4.6硅片去掩膜…………………………7
5工艺加工能力……………7
5.1工艺能力要求………………………7
5.2工艺稳定性要求……………………8
6工艺保障条件要求………………………8
6.1人员要求………………………
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