19 试验
65 农业
77 冶金
  • T/IAWBS 007-2018 4H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法 现行
    译:T/IAWBS 007-2018
    适用范围:范围:本标准规定了4H-N型重掺杂碳化硅衬底(N型掺杂浓度>5×1018 cm-3)上同质外延层(掺 杂浓度5×1014cm-3-5×1016 cm-3)厚度的红外反射测量方法。 本标准适用于2-100微米的碳化硅外延层; 主要技术内容:本标准规定了4H-N型重掺杂碳化硅衬底(N型掺杂浓度>5×1018 cm-3)上同质外延层(掺杂浓度5×1014cm-3-5×1016 cm-3)厚度的红外反射测量方法。本标准适用于2-100微米的碳化硅外延层。本标准规定的方法是 4H 碳化硅衬底与外延层因掺杂浓度的不同导致两者具有不同的折射率,因此试样的反射光谱会出现反映外延层厚度信息的连续干涉条纹。当外延层表面反射的光束和衬底界面反射的光束的光程差是半波长的整数倍时,反射光谱中可以观察到极大极小值。根据反射谱中干涉条纹的极值峰位,试样的光学常数以及入射角可以计算出相应的外延层厚度。4H 碳化硅外延层的厚度检测原理如图2:入射光由A 处入射,经由外延表面AC 反射,同时经过折射在衬底和外延界面B 处反射,由C 处射出,和D 处的反射光之间的相位差δ即可求得
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2018-12-06 | 实施时间: 2018-12-17
  • T/ZZB 0648-2018 200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片 现行
    译:T/ZZB 0648-2018 200 mm heavy phosphorus-doped straight pull silicon single crystal polished wafer
    适用范围:主要技术内容:本标准规定了200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片的术语和定义、产品分类、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存、订货单(或合同)内容和质量承诺。本标准适用于以电子级多晶硅为主要原材料,采用直拉法制备的直径为200 mm的硅单晶抛光片。产品主要用于集成电路、分立器件用外延片的衬底
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2018-10-19 | 实施时间: 2018-11-01
  • GB/T 12965-2018 硅单晶切割片和研磨片 现行
    译:GB/T 12965-2018 Monocrystalline silicon as cut wafers and lapped wafers
    适用范围:本标准规定了硅单晶切割片和研磨片(简称硅片)的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于由直拉法、悬浮区熔法(包括中子嬗变掺杂和气相掺杂)制备的直径不大于200 mm的圆形硅单晶切割片和研磨片。产品主要用于制作晶体管、整流器件等,或进一步加工成抛光片。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2018-09-17 | 实施时间: 2019-06-01
  • GB/T 25076-2018 太阳能电池用硅单晶 被代替
    译:GB/T 25076-2018 Monocrystalline silicon for solar cell
    适用范围:本标准规定了太阳能电池用硅单晶(简称硅单晶)的牌号、分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。 本标准适用于直拉掺杂制备的圆形硅单晶经加工制成的准方形或方形硅单晶。产品经切割成硅片后进一步制作太阳能电池。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2018-09-17 | 实施时间: 2019-06-01
  • GB/T 36706-2018 磷化铟多晶 现行
    译:GB/T 36706-2018 Polycrystalline indium phosphide
    适用范围:本标准规定了磷化铟多晶的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。本标准适用于生产磷化铟单晶用的磷化铟多晶。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2018-09-17 | 实施时间: 2019-06-01
  • GB/T 26071-2018 太阳能电池用硅单晶片 被代替
    译:GB/T 26071-2018 Monocrystalline silicon wafers for solar cells
    适用范围:本标准规定了太阳能电池用硅单晶片(简称硅片)的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容等。 本标准适用于由直拉法制备的硅单晶加工成的准方形或方形硅片,产品用于制作太阳能电池的衬底片。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2018-09-17 | 实施时间: 2019-06-01
  • GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片 现行
    译:GB/T 12964-2018 Monocrystalline silicon polished wafers
    适用范围:本标准规定了硅单晶抛光片(简称硅抛光片)的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于直拉法、悬浮区熔法(包括中子嬗变掺杂和气相掺杂)制备的直径不大于200 mm的硅单晶抛光片。产品主要用于制作集成电路、分立元件、功率器件等,或作为硅外延片的衬底。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2018-09-17 | 实施时间: 2019-06-01
  • GB/T 35305-2017 太阳能电池用砷化镓单晶抛光片 被代替
    译:GB/T 35305-2017 Monocrystalline gallium arsenide polished wafers for solar cell
    适用范围:本标准规定了太阳能电池用砷化镓单晶抛光片的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和质量证明书。本标准适用于太阳能电池用砷化镓单晶抛光片(以下简称砷化镓抛光片)。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2017-12-29 | 实施时间: 2018-07-01
  • GB/T 35308-2017 太阳能电池用锗基Ⅲ-Ⅴ族化合物外延片 现行
    译:GB/T 35308-2017 Epitaxial wafers of germanium based Ⅲ-Ⅴcompounds for solar cell
    适用范围:本标准规定了太阳能电池用锗基ⅢⅤ族化合物外延片(以下简称“外延片”)的术语和定义、分类及牌号、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和质量证明书。本标准适用于太阳能电池用锗基ⅢⅤ族化合物外延片。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2017-12-29 | 实施时间: 2018-07-01
  • GB/T 35307-2017 流化床法颗粒硅 被代替
    译:GB/T 35307-2017 Granular polysilicon produced by fluidized bed method
    适用范围:本标准规定了流化床法生产的颗粒硅的术语和定义、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于以硅烷气为原料,采用流化床法生产的颗粒状多晶硅产品。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2017-12-29 | 实施时间: 2018-07-01
  • GB/T 35316-2017 蓝宝石晶体缺陷图谱 现行
    译:GB/T 35316-2017 Collection of metallographs on defects of sapphire crystal
    适用范围:本标准规定了蓝宝石晶体缺陷的术语和定义、形貌特征及产生原因。 本标准适用于蓝宝石单晶材料制备中各种缺陷的检验和分析。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H80/84半金属与半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2017-12-29 | 实施时间: 2018-07-01
  • GB/T 35310-2017 200 mm硅外延片 现行
    译:GB/T 35310-2017 200 mm silicon epitaxial wafer
    适用范围:本标准规定了直径200 mm硅外延片的术语和定义、产品分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书。本标准适用于在N型和P型硅抛光衬底片上外延生长的硅外延片。产品主要用于制作集成电路或半导体器件。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2017-12-29 | 实施时间: 2018-07-01
  • T/IAWBS 002-2017 碳化硅外延片表面缺陷测试方法 现行
    译:T/IAWBS 002-2017
    适用范围:主要技术内容:本标准规定了功率器件用碳化硅外延片表面缺陷的无损光学测量方法。本标准适用于同质的超过(含)2微米厚的碳化硅外延层
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H20/29金属理化性能试验方法
    发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2017-12-20 | 实施时间: 2017-12-31
  • T/IAWBS 003-2017 碳化硅外延层载流子浓度测定_汞探针电容-电压法 现行
    译:T/IAWBS 003-2017 Carrier concentration measurement of silicon carbide epitaxial layer using mercury probe capacitance-voltage method
    适用范围:主要技术内容:本标准规定了碳化硅(4H-SiC)外延层载流子浓度的测定方法─汞探针电容-电压法。本标准适用于单层同质碳化硅外延层载流子浓度的测量,要求测量的碳化硅外延层厚度必须大于测试偏压下耗尽层的宽度。载流子浓度测量范围为:1×1014cm-3~5×1017cm-3。本标准也可适用于碳化硅衬底载流子浓度的测量
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H80/84半金属与半导体材料
    发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2017-12-20 | 实施时间: 2017-12-31
  • GB/T 25074-2017 太阳能级多晶硅 现行
    译:GB/T 25074-2017 Solar-grade polycrystalline silicon
    适用范围:本标准规定了太阳能级多晶硅的术语和定义、牌号及分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和质量证明书。本标准适用于以氯硅烷、硅烷为原料生长的棒状多晶硅或经破碎形成的块状多晶硅。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2017-11-01 | 实施时间: 2018-05-01
  • GB/T 34479-2017 硅片字母数字标志规范 现行
    译:GB/T 34479-2017 Specification for alphanumeric marking of silicon wafers
    适用范围:本标准规定了硅片或其他半导体晶片上字母数字标志的编码规范,包括标志的形状和尺寸、字母数字代码的定义、要求和字母数字错码检验方法等。本标准适用于在硅片及其他晶片正面或背面的编码标志。注: 字母数字标志及关联信息存入数据库,可被简单的自动光学字符读数(OCR)仪或人工进行独立、快速识别,确保晶片制造商对晶片标记的一致性。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H80/84半金属与半导体材料
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2017-10-14 | 实施时间: 2018-07-01
  • T/CEC 137-2017 输电线路钢管塔加工技术规程 现行
    译:T/CEC 137-2017 Transmission Line Steel Pipe Tower Processing Technical Regulations
    适用范围:主要技术内容:本标准规定了输电线路钢管塔加工过程中的材料与零件、制作与装配、焊接、试组装、防腐、检验、包装、标记、贮存和运输等方面的要求。本标准适用于输电线路钢管塔在制造方厂内的加工、检验
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.020电气工程综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H40/59钢铁产品
    发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2017-05-15 | 实施时间: 2017-08-01
  • DL/T 1675-2016 高压直流接地极馈电元件技术条件 现行
    译:DL/T 1675-2016 High-voltage direct current grounding electrode feeder component technical specification
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.050导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H62重金属及其合金
    发布单位或类别:(CN-DL)行业标准-电力 | 发布时间: 2016-12-05 | 实施时间: 2017-05-01
  • YS/T 724-2016 多晶硅用硅粉 现行
    译:YS/T 724-2016 Silicon power for polycrystalline
    适用范围:本标准规定了多晶硅生产用硅粉的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容等。 本标准适用于多晶硅生产用硅粉。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料
    发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2016-07-11 | 实施时间: 2017-01-01
  • YS/T 1160-2016 工业硅粉定量相分析 二氧化硅含量的测定 X射线衍射K值法 现行
    译:YS/T 1160-2016 Silicon powder-quantitative phase analysis—Determination of silicon dioxide content—Value K method of X-ray diffraction
    适用范围:本标准规定了工业硅粉中二氧化硅含量的测定方法。 本标准适用于工业硅粉中二氧化硅含量的测定,测定范围为≥1%。
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H12轻金属及其合金分析方法
    发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2016-07-11 | 实施时间: 2017-01-01