GB/T 35310-2017 200 mm硅外延片
GB/T 35310-2017 200 mm silicon epitaxial wafer
国家标准
中文简体
现行
页数：9页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2017-12-29
实施日期
2018-07-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
本标准规定了直径200 mm硅外延片的术语和定义、产品分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书。本标准适用于在N型和P型硅抛光衬底片上外延生长的硅外延片。产品主要用于制作集成电路或半导体器件。
发布历史
-
2017年12月
研制信息
- 起草单位：
- 南京国盛电子有限公司、有色金属技术经济研究院
- 起草人：
- 马林宝、骆红、杨帆、金龙、杨素心
- 出版信息：
- 页数：9页 | 字数：16 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS29.045
H82
中华人民共和国国家标准
/—
GBT353102017
200mm硅外延片
200mmsiliconeitaxialwafer
p
2017-12-29发布2018-07-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
GBT353102017
前言
本标准按照/—给出的规则起草。
GBT1.12009
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/)与全国半导体设备和材料标准
SACTC203
化技术委员会材料分技术委员会(//)共同提出并归口。
SACTC203SC2
:、
定制服务
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