适用范围：本文件描述了测定锅炉用水和冷却水中正磷酸盐、总无机磷酸盐、总磷酸盐含量的方法：钼酸铵分光光度法和连续流动钼酸铵分光光度法。 本文件适用于锅炉用水和冷却水中正磷酸盐、总无机磷酸盐、总磷酸盐含量的测定。钼酸铵分光光度法的测定范围为0.05 mg/L~50 mg/L(以PO43－计)；连续流动钼酸铵分光光度法的测定范围为0.1 mg/L~50 mg/L(以PO43－计)。

适用范围：本文件描述了分析人员利用全反射X射线荧光(TXRF)仪器开展水样测量的化学方法。根据良好的操作实践，本方法具有确定的准确度和精密度。本文件适用于开展大量样品常规分析且按照ISO/IEC 170251)运作的实验室。 本文件描述了水(例如，饮用水、地表水、地下水)中溶解性元素含量的测定方法。考虑到特定和额外发生的干扰，按照本方法也能测定废水和洗脱液中的元素。本文件不包括采样、稀释和预浓缩方法。 本方法能测定的元素会随着仪器X射线源的改变而发生变化。本文件未涉及健康、安全和商业因素。 测量范围取决于样品基体和遇到的干扰。对于饮用水和相对未被污染的水，大多数元素的定量限介于0.001 mg/L~0.01 mg/L。测量范围通常介于0.001 mg/L~10 mg/L的浓度区间，取决于测量元素和预先设定的要求。 附录B给出了钼靶X射线源、Ga作为校准内标时的TXRF分析水样的完整方法验证示例。 大多数元素的定量限会受到空白污染的影响，且主要依赖于所使用的实验室空气处理设施以及试剂的纯度和实验器具的清洁程度。

适用范围：本文件规定了如何报告X射线光电子能谱的峰拟合及其结果。本文件适用于单个谱图或一组相关谱图的拟合，例如在深度剖析测试中采集获得的一组相关谱图。本文件提供了一个应报告的参数列表，以实现可重复的峰拟合或对多个谱进行拟合与比较。本文件不提供峰拟合的操作说明，也不提供应采用的拟合步骤。

适用范围：本文件提供了仪器操作者对固体材料表面进行紫外光电子能谱分析的指导，包括样品处理、谱仪校准和设定、谱图采集以及最终报告。 本文件适用于配备有真空紫外光源的X射线光电子能谱仪的操作者分析典型样品。

适用范围：本文件规定了俄歇电子能谱仪动能能量标不确定度为3 eV时的校准方法，用于识别表面常规元素。另外，本文件还规定了一种用于确定校准周期的方法。本文件适用于直接模式或微分模式的仪器分辨率小于或等于0.5%，微分模式调制幅度的峰值为 2 eV，配有惰性气体离子枪或其他样品清洁方法，具有4 keV或更高束能电子枪的谱仪。

适用范围：本文件规定了采用电子背散射衍射（electron backscatter diffraction，EBSD）法测量钢中奥氏体体积分数和形态的方法、设备、取样和试样制备、测量步骤、数据处理和检验报告。 本文件适用于分析含有晶粒尺寸50 nm以上奥氏体的中、低碳钢及中、低碳合金钢。 本文件不适用于分析晶粒尺寸小于50 nm的奥氏体，奥氏体晶粒尺寸小于50 nm会严重影响定量分析结果的准确性。 注： 晶粒尺寸下限是可观察到的最小奥氏体晶粒尺寸。晶粒尺寸下限取决于设备条件和操作参数。

适用范围：本文件规定了一种通过测定溅射速率校准材料溅射深度的方法，即在一定溅射条件下测定一种具有单层或多层膜参考物质的溅射速率，用作相同材料膜层的深度校准。当使用俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)和二次离子质谱(SIMS)进行深度分析时，这种方法对于厚度在20 nm~200 nm之间的膜层具有5%~10%的准确度。溅射速率是由参考物质相关界面间的膜层厚度和溅射时间决定。使用已知的溅射速率并结合溅射时间，可以得到被测样品的膜层厚度。测得的离子溅射速率可用于预测各种其他材料的离子溅射速率，从而可以通过溅射产额和原子密度的表值估算出这些材料的深度尺度和溅射时间。

适用范围：本文件规定了工业循环冷却水中钙、镁含量及锅炉水系统或循环水系统的水垢中钙、镁含量的测定方法--原子吸收光谱法。本文件适用于工业循环冷却水中钙含量为0.5 mg/L~75 mg/L、镁含量为0.1 mg/L~50 mg/L的测定,水垢中钙含量≥0.005%、镁含量≥0.005%的测定。本文件也适用于其他各种工业用水、原水和用水系统的水垢中钙、镁含量的测定，以及工业循环冷却水用磷锌预膜液中钙含量的测定。

适用范围：本文件规定了工业循环冷却水中铜、铁、锌含量及锅炉水系统或循环水系统的水垢中铜、铁、锌含量的测定方法--原子吸收光谱法。本文件适用于工业循环冷却水中铜含量为0.1 mg/L~20 mg/L、铁含量为0.1 mg/L~20 mg/L、锌含量为0.1 mg/L~20 mg/L的测定，水垢中铜含量≥0.005%、铁含量≥0.01%、锌含量≥0.005%的测定。本文件也适用于锅炉用水中铜、铁、锌的测定及其他工业用水、原水和用水系统的水垢中铜、铁、锌含量的测定，以及工业循环冷却水用磷锌预膜液中锌含量的测定。

适用范围：本文件界定了在AEM实践中所用的术语。包含一般概念和特定概念的术语，按照系统顺序中各自的层次分类。 本文件适用于所有和 AEM 实践相关的标准化文件。此外，本文件的某些部分适用于相关领域（如 TEM, STEM, SEM, EPMA, EDX)通用术语的定义。

适用范围：本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法，以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。 本文件适用于硼原子浓度范围1×1016 atoms/cm3～1×1020 atoms/cm3的单晶硅、多晶硅或非晶硅样品，溅射弧坑深度在50 nm及以上。

适用范围：本文件规定了利用原子力显微术测量层状二硫化钼纳米片厚度的测量方法。 本文件适用于转移或生长在固体衬底表面的层状二硫化钼纳米片厚度的测量,测量范围从单层二硫化钼纳米片至厚度不大于100 nm，其他类似的纳米片层材料厚度测量也可参照此方法进行。

适用范围：本标准规定了牙膏中限用防腐剂山梨酸和苯甲酸含量的高效液相色谱(HPLC)测定方法。 本标准适用于牙膏中限用防腐剂山梨酸和苯甲酸及其盐类含量的测定。 本标准方法检出限为0.5 mg/kg。

适用范围：本标准规定了牙膏中氯铵类抗菌剂劳拉氯铵、苄索氯铵、西吡氯铵、米他氯铵、西他氯铵含量的高效液相色谱（HPLC）测定方法。 本标准适用于牙膏中5种氯铵类抗菌剂含量的测定。 本标准的方法检出限为0.075 g/kg(劳拉氯铵、苄索氯铵)，0.012 5 g/kg(西吡氯铵、米他氯铵)和0.025 g/kg(西他氯铵)。

适用范围：本文件描述了一种用于优化一般分析目的的飞行时间二次离子质谱（SIMS）仪器的质量校准准确度的方法。本文件仅适用于飞行时间仪器，但并不限于任何特定的仪器设计。本文件提供了对一些仪器参数优化的指导，这些参数能使用此程序进行优化，还提供了适用于校准质量标以获得最佳质量准确度的一般峰的类型。

适用范围：本标准规定了牙膏中禁用漂白剂过氧化苯甲酰含量的高效液相色谱测定方法。 本标准适用于牙膏中禁用漂白剂过氧化苯甲酰含量的测定。 本标准方法检出限为0.5 mg/kg。

适用范围：本标准规定了牙膏中禁用抗生素类药物甲硝唑和诺氟沙星含量的高效液相色谱(HPLC)测定方法。 本标准适用于牙膏中禁用抗生素类药物甲硝唑和诺氟沙星含量的测定。 本标准方法检出限为1 mg/kg。

适用范围：本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。 本文件适用于以下情形： ——原子序数从16（S）到92（U）的元素； ——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2~1×1014 atoms/cm2之间的污染元素； ——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2~5×1012 atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。

适用范围：本标准规定了对文具产品中苯、甲苯、乙苯及二甲苯含量的气相色谱测定方法。 本标准适用于涂改类文具、书写文具、绘画颜料、胶粘文具等产品中苯、甲苯、乙苯及二甲苯含量的测定。 本标准不适用于产品包装。

适用范围：本标准规定了用电子背散射衍射法(EBSD)对抛光截面进行平均晶粒尺寸的测定方法，包含与晶体试样中的位置相关的取向、取向差和花样质量因子的测量要求[1]。 注1： 使用光学显微镜测定晶粒尺寸已为大家普遍接受，与其相比，EBSD具有很多技术优势，如高的空间分辨率和晶粒取向的定量描述等。 注2： 该方法还可用于一些复杂材料（如双相材料）的晶粒尺寸测量。 注3： 对变形程度较大的试样进行分析时，需谨慎处理结果。