适用范围：本标准规定了黄磷尾气制甲酸生产装置的总体要求、工艺设计、工艺设备与材料、主要辅助工程、验收、运行与维护、产品包装、贮存及运输等技术要求。本标准适用于新建、扩建和改建的黄磷尾气制甲酸生产装置。

适用范围：本标准规定了用透射电子显微镜（以下简称透射电镜)检测含有金、银纳米颗粒材料的生物试样超微结构的技术和规范。本标准规定的各项准则，主要适用于透射电子显微镜对金、银纳米材料的生物效应检测分析。

适用范围：本标准规定了透射电镜（TEM）在很大放大倍率范围内所记录的图像的校准方法。用于校准的标准物质具有周期性结构，例如衍射光栅复型、半导体的超点阵结构或X射线分析的分光晶体以及碳、金或硅的晶体晶格像。 本标准适用于记录在照相胶片上或成像板上或数字相机内置传感器采集的 TEM图像的放大倍率。本标准也可用于校准标尺，但不适用于专用的临界尺寸测长透射电镜（CD-TEM）和扫描透射电镜（STEM）。

适用范围：本标准规定了用透射电子显微镜（以下简称透射电镜）检测含有碳基纳米材料的生物样品超微结构的技术和规范。 本标准适用于含碳基纳米材料的生物薄试样透射电镜分析检测。

适用范围：本标准规定了生物试样扫描电子显微镜分析的技术要求和规范。本标准适用于各种类型的扫描电子显微镜。

适用范围：本标准规定了用于评估扫描电子显微镜（SEM）生成的数字图像锐度的3种方法：傅立叶变换（FT）法、衬度梯度（CG）法、导数（DR）法。

适用范围：本标准规定了含铅玻璃化学成分分析的试样制备和玻璃中二氧化硅、氧化铅、三氧化二硼、三氧化二铝、三氧化二砷、氧化钡、氧化钙、氧化镉、氧化铈、三氧化二铬、三氧化二钴、氧化铜、总铁、氧化钾、氧化镁、氧化锂、二氧化锰、氧化钠、氧化镍、五氧化二磷、三氧化硫、三氧化二锑、氧化硒、氧化锡、氧化锶、二氧化钛、氧化锌、氧化锆、三氧化二钕等化学成分的分析方法。 本标准适用于含铅玻璃的化学分析以及化学组成类似的其他玻璃化学成分的分析。 注： 本标准规定的分析方法对应的章条关系参见附录A中的表A.1。

适用范围：本标准规定了分析者使用X射线光电子能谱（XPS)分析试样后应报告信息的最低要求。包括原始记录和分析记录的信息。

适用范围：本标准确定了采用带火焰光度检测器（FPD）的气相色谱仪测定煤基合成气中硫化氢、羰基硫、甲硫醇、甲硫醚的方法提要、试剂和材料、仪器、采样、测定步骤、结果计算、精密度、试验报告。本标准适用于煤基合成气中硫化氢浓度不低于0.08 mg/m3、羰基硫浓度不低于0.12 mg/m3、甲硫醇浓度不低于0.08 mg/m3、甲硫醚浓度不低于0.07 mg/m3的测定。

适用范围：本标准规定了痕量分析用气体的深度纯化技术。经纯化后气体的目标组分含量的体积分数低于0.01×10-6，压力为0.1 MPa～18 MPa，流量为0.1 L/min～100 L/min。 本标准适用于仪表校准用零点气、气相色谱分析所用的载气和标准气体的平衡气。本标准适用的气体为氧气、氢气、氮气、氦气、氖气、氩气、氪气、氙气。

适用范围：本标准规定了采用辉光放电质谱(GDMS)法测量多晶硅中杂质元素的测试方法。本标准适用于多晶硅材料中除氢和惰性气体元素以外的其他杂质元素含量的测定，测量范围是本方法的检出限至0.1%（质量分数)，检出限根据所用仪器及测量条件确定。通过合适的标准样品校正，也可以测量质量分数大于0.1%的杂质元素含量。单晶硅材料中痕量杂质元素也可参照本标准测量。

适用范围：本标准规定了测定化工产品中砷的通用方法。 本标准中的二乙基二硫代氨基甲酸银光度法适用于砷含量在1 μg～20 μg范围内的溶液测定，原子荧光光度法适用于砷含量在0.005 μg～2.5 μg范围内的溶液测定。

适用范围：本标准规定了采用电化学法测定气体中微量氧的方法,包括燃料电池法、赫兹电池法、氧化锆浓差电池法、离子流法、原电池法等，对仪器、校准、试验步骤、结果处理和试验报告等提出了要求。  本标准适用于不与化学电池发生化学反应且不干扰测定的气体。测定范围：0.01×10-6（体积分数）～1 000×10-6（体积分数）。

适用范围：GB/T 5832的本部分规定了采用露点法测定气体中微量水分的方法。 本部分适用于氢、氧、氮、氦、氖、氩、氪、氙、氧化亚氮等气体及其混合气体中微量水分的测定。不适用于在水分冷凝前就冷凝的气体以及能与水分发生反应的气体。本部分适用于0 ℃～-100 ℃气体露点的测定。

适用范围：GB/T 5832的本部分规定了采用电解法测定气体中微量水分的方法，描述了方法原理，对仪器、仪器校准、测定事项、精密度、结果处理、试验报告等提出了要求。本部分适用于氮、氦、氖、氩、氪、氙、二氧化碳以及其他不与五氧化二磷发生除吸湿以外的各种反应的气体中微量水分的测定，测定范围：0.1×10-6～1 000×10-6（体积分数）。

适用范围：本标准规定了利用辉光放电发射光谱测定金属氧化物膜厚度、单位面积质量和金属氧化物膜化学组成的方法。本方法适用于测定金属上厚度为1 nm～10 000 nm的氧化物膜，氧化物的金属元素包括铁、铬、镍、铜、钛、硅、钼、锌、镁、锰和铝中的一种或多种。其他可测元素还包括氧、碳、氮、氢、磷和硫。