GB/T 20230-2006 磷化铟单晶
GB/T 20230-2006 Indium phosphide single crystal
基本信息
发布历史
-
2006年04月
-
2022年03月
研制信息
- 起草单位:
- 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 起草人:
- 孙聂枫、周晓龙、孙同年
- 出版信息:
- 页数:6页 | 字数:9 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS29.045
H83
中华人民共和国国家标准
GB/T20230—2006
磷化锢单晶
Indiumphosphidesinglecrystal
2006-04-21发布2006-10-01实施
发布
GB/T20230—2006
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本标准主要参考了SEMIM23—0302《磷化锢单晶抛光片,结合我国实际情况进行编写的。
本标准由中国有色金属工业协会提出。
本标准由信息产业部(电子)归口。
本标准起草单位:中国电子科技集团公司第十三研究所。
本标准主要起草人:孙聂枫、周晓龙、孙同年。
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GB/T20230—2006
磷化锢单晶
1范围
本标准规定了n型、半绝缘型(Si)、p型磷化钢单晶锭及单晶片的牌号、技术要求、试验方法、检验
规则以及标志、包装、运输、贮存等。
本标准适用于高压液封直拉法(HP-LEC)制备的磷化钢单晶材料(以下简称单晶)。
2规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有
的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究
是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T1550非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T1555半导体单晶晶向测量方法
GB/T2828(所有部分)计数抽样检验程序
GB/T4326非本征半导体单晶霍耳迁移率和霍耳系数测量方法
GB/T6618硅片厚度和总厚度变化测试方法
GB/T13387电子材料晶片参考面长度测量方法
SJ/T3244.1GaAs和InP材料霍耳迁移率和载流子浓度的测量方法
SJ/T3245磷化锢单晶位错密度测量方法
SJ/T3249.1半绝缘碑化傢和磷化钢体单晶材料的电阻率测试方法
3要求
3.1牌号
磷化錮单晶的牌号表示方法为:
HPLEC-InP^()-()
表示晶向
表示导电类型,括号内的元素符号表示掺杂剂
表示磷化钢单晶
表示咼压液封直拉法
示例:HPLEC-InP-Si(Fe)-(100),表示髙压液封直拉法掺铁半绝缘(100)晶向磷化钢单晶。若单•晶不强调生长方法
和掺杂剂,则相应部分可以省略。
3.2磷化锢单晶锭的特性
3.2.1磷化锢的导电类型分为n型、半绝缘型、p型。
3.2.2磷化锢单晶锭的掺杂剂、霍耳迁移率和电阻率应符合表1的规定。
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GB/T20230—2006
表1磷化锢单晶的导电类型、掺杂剂、电学参数
载流子浓度/迁移率/电阻率/
导电类型掺杂剂
cm-3[cm2/(V•s)](Q・cm)
S>5X10n>500
n型
Sn
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