GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环
GB/T 41652-2022 Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
国家标准
中文简体
现行
页数：8页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2022-07-11
实施日期
2023-02-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200 mm～450 mm的硅电极及硅环。
发布历史
-
2022年07月
研制信息
- 起草单位：
- 有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司
- 起草人：
- 库黎明、孙燕、闫志瑞、张果虎、夏秋良、潘金平
- 出版信息：
- 页数：8页 | 字数：17 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS29.045
CCSH82
中华人民共和国国家标准
/—
GBT416522022
刻蚀机用硅电极及硅环
Siliconelectrodeandsiliconrinforlasmaetchinmachine
gpg
2022-07-11发布2023-02-01实施
国家市场监督管理总局
发布
国家标准化管理委员会
/—
GBT416522022
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规
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