GB/T 14139-2009 硅外延片
GB/T 14139-2009 Silicon epitaxial wafers
基本信息
标准号
GB/T 14139-2009
标准类型
国家标准
标准状态
被代替
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
适用范围
本标准规定了硅外延片的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则及标志、包装运输、贮存等。本标准适用于在N型硅抛光片衬底上生长的n型外延层（N/N＋）和在p型硅抛光片衬底上生长的P型外延层（P/P＋）的同质硅外延片。产品主要用于制作硅半导体器件。其他类型的硅外延片可参照使用。
发布历史
-
1993年02月
-
2009年10月
-
2019年06月
研制信息
- 起草单位：
- 宁波立立电子股份有限公司
- 起草人：
- 许峰、刘培东、李慎重、谌攀
- 出版信息：
- 页数：7页 | 字数：12 千字 | 开本： 大16开
内容描述
犐犆犛２９．０４５
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中华人民共和国国家标准
／—
犌犅犜１４１３９２００９
代替／—
ＧＢＴ１４１３９１９９３
硅外延片
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狆
２００９１０３０发布２０１００６０１实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
／—
犌犅犜１４１３９２００９
前言
本标准代替／—《硅外延片》。
ＧＢＴ１４１３９１９９３
本标准与原标准相比，主要有如下变动：
———删除了引用标准／《硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法》和／《硅片包装》；
ＹＳＴ２３ＹＳＴ２８
———增加了引用标准／《硅外延层、扩展层和离子注入层薄层电阻的测定直排四探针
ＧＢＴ１４１４１
定制服务
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