GB/T 29506-2013 300 mm硅单晶抛光片
GB/T 29506-2013 300 mm polished monocrystalline silicon wafers
国家标准
中文简体
现行
页数：8页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2013-05-09
实施日期
2014-02-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
适用范围
本标准规定了直径300 mm、p型、100晶向、电阻率0.5 Ω·cm～20 Ω·cm规格的硅单晶抛光片的术语和定义、技术要求、试验方法、检测规则以及标志、包装、运输、贮存等。
本标准适用于直径300 mm直拉单晶磨削片经双面抛光制备的硅单晶抛光片，产品主要用于满足集成电路IC用线宽90 nm技术需求的衬底片。
本标准适用于直径300 mm直拉单晶磨削片经双面抛光制备的硅单晶抛光片，产品主要用于满足集成电路IC用线宽90 nm技术需求的衬底片。
发布历史
-
2013年05月
研制信息
- 起草单位：
- 有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
- 起草人：
- 闫志瑞、孙燕、盛方毓、卢立延、张果虎、向磊
- 出版信息：
- 页数：8页 | 字数：14 千字 | 开本： 大16开
内容描述
暂无内容
定制服务
推荐标准
- HG/T 4188-2011 湿法磷酸取水定额 2011-06-15
- JB/T 8825.1-2011 惠氏螺纹刀具 第1部分：丝锥 2011-12-20
- MZ/T 028-2012 村民委员会选举程序 2012-03-02
- JB/T 8825.7-2011 惠氏螺纹刀具 第7部分：滚丝轮 2011-12-20
- JB/T 4220-2011 人造石墨的点阵参数测定方法 2011-12-20
- QB/T 1781-2011 邻氨基苯甲酸甲酯 2011-12-20
- SJ/T 11319-2005 锡焊料动态条件氧化渣量定量试验方法 2005-06-28
- QB/T 2519-2011 己酸烯丙酯 2011-12-20
- QB/T 4277-2011 瓶装饮料全自动喷淋式暖瓶机 2011-12-20
- QB/T 4278-2011 调浆机 2011-12-20